Vakuumunterstützte,
kompakte
Sinteranlage
SIN 20
Für die Kleinserienfertigung bei F&E- oder Laboranwendungen
Kompakt und vakuumunterstützt
Die kompakte Labor-Sinteranlage SIN 20 wurde für die einfache und schnelle Entwicklung sowie Optimierung von Sinterprozessen konzipiert.
Das patentierte Softtool ermöglicht die Prozessierung verschiedenster Layouts mit nur einem Oberwerkzeug. Änderungen am Design der Bauelemente und die Herstellung unterschiedlicher Kundenmuster sind hierdurch ohne aufwändige Werkzeuganpassungen realisierbar. Zudem erlaubt das Softtool die Versinterung mehrerer Lagen in einem Prozessschritt.
Flexibles Oberwerkzeug (High-force Softtool oder Hardtool)
Zielanwendungen:
- Sinterung von Halbleitern auf keramischen Substraten und auf Leadframes
- Sinterung von Substraten auf Bodenplatten
- Sinterung von Chip-Oberseitenkontaktierung
- Sinterung von High-Power LEDs
SIN 20
Systemeigenschaften
- Hermetisch abgeschlossene Prozesskammer
- Sinterprozessfläche: max. 100 x 100 mm
- Max. Produkthöhe: 50 mm
- Min. Produktabstand: 0 mm
- Heizplattentemperatur: bis 350 °C
- Separate Heiz- und Kühlzonen
- Dynamisch anpassbare Presskraft von 1 bis 200 kN
- Max. Presskraft im Dauerbetrieb: 175 kN
- Dynamisch anpassbarer Druck: Softtool bis 30 MPa und Hardtool bis 60 MPa
- Dynamisch gesteuerte und überwachte Druckrampen
- Fahrgeschwindigkeit: aufwärts bis 17,5 mm/s, abwärts bis 27,5 mm/s
- Präzise Kontrolle der Prozessgase (N2, N2/O2, N2/H2, HCOOH)
- Gasdruck: 1 - 960 mbar
- Frei programmier-, steuer- und überwachbare Prozessparameter (Temperaturprofile, Prozessgase und Sinterdruck)
- Ethernet-Schnittstelle
- Fernzugriff (VPN)
- Geringer Energie- und Medienverbrauch
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