はんだ付け装置型式 VADU 200XL-W
VADU 200XL-Wはんだ付けシステムは、2つの独立したプロセスチャンバを備え、ペーストはんだ付けとプリフォームはんだ付けの両方に対応します。
VADU 200 XL-Wは、最大12インチまでのウェーハのはんだ付けを可能にします。 PINKは、この目的のためにカスタマイズされたワークピース・キャリアも提供しています。
これにより、加熱・冷却時の温度勾配など、関連するすべてのプロセスパラメーターを正確に調整・制御できる。 インテリジェントな温度管理により、このシステムはサイクルタイムが非常に短く、温度安定性に優れている。
真空はんだ付け装置 VADU 200XL-W
データシート
| システムタイプ | バッチ式 |
| 真空チャンバー数 | 2室 |
| 使用可能面積（幅×奥行） | 410 x 320 mm |
| 水門の高さ | マックスだ。 100 mm |
| 真空（標準） | ≤ 2 mbar |
| システム寸法（幅×奥行×高さ） | 1,200 x 1,890 x 1,680 mm |
| ポンプユニットの寸法 | 一体型 |
| 重量 | 1,200 kg |
| 電気接続 | 3 x 400 V、50/60 Hz |
| 接続負荷 | 10kVA |
| SMEMAインターフェース | - |
オプション
| ハンドリング／搬送システム | |
| 統合MESインターフェース（SECS/GEMなど） |
システム特性
- ブローホールのないはんだ接合
- プリフォームおよび/またはペーストによるはんだ付け
- 用ハンダプロファイル
- 400 °Cまでのプロセス温度
- 制御された温度勾配
- 短いサイクルタイム
- 最大12インチウエハ
- はんだ付け室と冷却室を分離
- フラックスフリーはんだ付けのためのギ酸プロセス
- ドレン分離
- 不活性保護ガス雰囲気
- 残留酸素量 < 5 ppm
- はんだ付け結果の再現性
- トレーサビリティ（追跡可能性）
- 連続プロセス制御
- イーサネット・インターフェイス
- リモートメンテナンス（VPN）
- 低エネルギーとメディア消費
その他の真空はんだ付けシステム
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