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乾燥技術

静かに乾燥させる
真空下で

水の相図

熱プロセスの中でも、真空乾燥は多くの産業で特に成功を収めている。 このプロセスの目的は、製品の特性を変えることなく、水や溶剤と混合した高品質の製品を穏やかに乾燥させることである。

When drying under vacuum, the total pressure in the drying oven is lowered so that water or solvents change from the liquid to the vapour phase even at low temperatures.

乾燥工程は、熱供給と圧力制御によって最適化される。

真空乾燥システムは基本的に、加熱システムを備えた乾燥炉と、特定の乾燥プロセスに合わせてカスタマイズされた真空ポンプステーション、それに対応する制御システムから構成される。

真空乾燥炉/アイソレーター

乾燥とプロセス技術に最適な機器とシステム:ラボ用(VSD-e)と標準乾燥プロセス用(VT)、GMP/FDA準拠プロセス用(VSD)からHAPI製品の安全乾燥用(VSDI)、液体で有害な製品のプレフィルタリングと乾燥用(VSDIN)。

VADU

バッチシステム
1真空チャンバー
スルーフィード高さ最大50 mm
サイズ:1,070 x 1,130 x 1,150 mm

VADU

バッチシステム
1真空チャンバー
スルーフィード高さ最大50 mm
サイズ:1,070 x 1,130 x 1,150 mm

VADU

バッチシステム
1真空チャンバー
スルーフィード高さ最大50 mm
サイズ:1,070 x 1,130 x 1,150 mm

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