コンパクト型シンタリングシステム SIN 20

開発試作用途から少量生産用途まで

新しいシンタリング装置 SIN 20 は、焼結プロセスのセットアップ、評価、および最適化において研究開発および研究機関をサポートするために開発されました。

SIN 20 は、圧力均等化の技術原理に基づいて、PINK社のこれまでの経験に基づいた技術にて、特許を取得した平衡真空技術を使用しています。　これにより、N2雰囲気だけでなく、ギ酸などの還元雰囲気でも焼結できます。　Cu基板だけでなく、AuまたはAg仕上げの基板も焼結可能となっております。

  • 柔軟なトップツールシステム(高プレス圧のソフトツールまたはハードツール)
    対象アプリケーション:
    – 基板とリードフレームへのダイアタッチ
    – ベースプレートへの基板の取り付け
    – ダイトップ相互接続
    – ハイパワーLED接合

SIN 20

SIN20
Icon Information

装置仕様

  • 密閉されたプロセスチャンバー
  • プロセスエリア:
    – 焼結: 最大 100 x 100 mm
    – ワーク最大高さ: 50 mm
    – 最小製品間距離: 0mm
  • 加熱システム:
    – 350 °C までの加熱プレート温度
    – 独立した冷却ゾーンと加熱ゾーン
  • トップツールシステム:
    – 1 kN から 200 kN までダイナミックに適応可能なプレス力
    – 連続プレス力: 175 kN
    – 最大動的適応圧力 ソフトツールで最大 30 MPa ハードツールで最大 60 MPa
    – 圧力の動的制御および監視
    – ドライブ速度: 上向き最大 17.5 mm/秒、下向き最大 27.5 mm/秒
  • 雰囲気制御システム:
    – 固有ガス雰囲気の正確な制御(N2、N2/O2、N2/H2、HCOOH)
    – 気圧範囲: 1 - 960 mbar
  • プロセス制御とユーザーインターフェイス:
    – 温度、気圧、および圧力プロファイルを自由にプログラムして制御および監視
    – 恒久的なプロセス制御
  • 接続性:
    – イーサネット インターフェイス
    – リモートメンテナンス (VPN)
  • 低エネルギーおよびプロセス媒体の低消費

お客様のニーズに対応したソリューションを提供

Sintering system SIN 200+

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