真空乾燥システム VSD

完璧に衛生的で汚染フリーな乾燥プロセス

GMP/FDA 準拠、EHEDG 認証、特許

取扱が困難で、場合によっては毒性を有する製品の製造には、純粋で汚染フリーの状態にて優しく乾燥することができる装置およびシステムが必要です。真空乾燥システム VSD はそのための機能を有しています。

EHEDG 認証を得た特許取得システム VSD は、GMP/FDA に従ったプロセスを実施するための理想的な基盤となります。真空乾燥システムは、パイロットプラント、大規模な実験室、製造プラントに欠かすことのできない機能です。

クレバー構造のメリット

VSD システムの構造原理は、その手の込んだ加工プロセスと真空乾燥システムの素晴らしい特性のコンビネーションです。エッジがまったく無く、内部はまるで鋳造したような構造になっています。加熱されたシェルフ、シーリング、フロアは二重構造になっており、チャンバのウォールにシームレスに融合されています。システムの効率的な熱伝導によりウォールは均一に温度調整され、結露面が発生することはありません。

真空乾燥システムのフロントには、ウォール設置のための取付けフレームが装備されています。そのフレームはバキュームチャンバにしっかりと溶接されています。医薬基準に従い、ドアのシーリングが摩損したり押しつぶされないように、ドアは偏心ヒンジ固定されています。

真空乾燥システム VSD

データシート

システム型式	真空乾燥システム
乾燥原理	真空、熱
容量	1 ～ 20 m2
ヒーティング	温水、サーモオイル
温度	最高 200 °C
素材	高級ステンレス、ハステロイ、インコネル、チタン
表面	研磨、ポリッシュド

オプション

• ダブルチャンバ バージョン
• パススルー バージョン
• アイソレータ接続密閉ソリューション
• ドアヒーティング
• 爆発危険環境（ATEX）における設置および操作に適したバージョン

GMP /FDA 準拠デザイン

GMP /FDA 準拠デザインVSD シリーズの真空乾燥システムには、自動回転ロックラッチが装備されており、簡単に洗浄することができます（ネジ無し）。

システムの特徴

• GMP /FDA 準拠
• EHEDG 認証
• 簡単洗浄
• エッジ無し、隠れた表面なし
• 加熱メディアの流入なし、製品チャンバのサポート無し
• 表面のクオリティ （研磨およびポリッシュド）
• 均等な加熱
• 特許取得システム

CIP デバイスによる再現可能な洗浄プロセス

洗浄サイクルの有効化には、再現可能な自動洗浄プロセスが必要です。

VSD 専用 CIP 洗浄デバイス（CIP = Cleaning In Place）が洗浄をサポートします。

このデバイスは、電動もしくは空圧で作動するスプレーヘッドを装備した洗浄ノズルで構成されています。駆動装置により洗浄ノズルが垂直に移動します。その際、スプレーヘッドは水平方向に動きます。

CIP 洗浄デバイスを装備した VSD