最良の処理結果をもたらす効果的な手法

広範な応用範囲

真空プラズマは電磁場によって生成されます。生じる化学反応と物理的作用は、プラズマを生成する時の反応ガスと励起周波数に依存します。

使用するガスは、例えば、対応するプラズマが酸化性か還元性か、あるいは中性かによって決めます。

中性プラズマ

中性プラズマは、例えば、アルゴンの様な貴ガスを用いて作ります。中性プラズマの主な作用は物理的な物 です。重いイオンを衝突させて汚染を除去するスパッタなどがあります。低励起周波数(kHz 帯)では、表面 に衝突する前にイオンが相当に加速するので、この効果がより強くなります。早くて重いイオンが表面に衝突 する際に熱を伝えるため、この方法はそれに適した物質とその表面に限られます。

反応性プラズマ

反応性プラズマは酸素、水素、フッ素等のガスから生成されます。酸化還元や表面機能化効果は、基板 材料や表層汚染と反応しやすいプラズマ中のイオンとラジカル種に起因します。プラズマ処理の後、表面は 活性化、不動化、あるいは高度洗浄などが生じます。

特に高励起周波(GHz)は、プラズマ中のイオンが高濃度になるため、反応性を最大限にする効果があります。同時にイオンエネルギーは低いままなのでスパッ タ効果と熱伝導は最小に抑えられるか、あるいはまったくありません。

環境性に優れ、かつ非常に効果的です

真空プラズマ装置の生産者として、非常に効率的であるばかりでなく、環境親和性と経済優位性もあり ます。なぜならば、通常、汚染廃棄物がなく、その廃棄費用も不要だからです。